Fluorocarbon Resist for High‐Speed Scanning Probe Lithography

Schnell wie der Blitz: Durch Hochgeschwindigkeits-Rastersondenlithographie in Perfluoroctan lässt sich fluorierter amorpher Kohlenstoff direkt mit Geschwindigkeiten im cm s−1-Bereich abscheiden. Muster von nur 27 nm Größe lassen sich innerhalb von Sekunden auf 100 μm2 großen Flächen erzeugen. Die nanoskaligen Muster wurden mithilfe der Photoelektronenemissionsmikroskopie und der Sekundärionenmassenspektrometrie charakterisiert.