Роль структурных несовершенств графена в резонансном туннелировании через локализованные состояния в h-BN барьере ван-дер-ваальсовых гетероструктур — М.В. Григорьев (2020) | RDL Network
Роль структурных несовершенств графена в резонансном туннелировании через локализованные состояния в h-BN барьере ван-дер-ваальсовых гетероструктур
Физика и техника полупроводников 54(3): 238-238
Article 2020 English
Authors
МГ
М.В. Григорьев
ДК
Д.А. Казарян
ЕВ
Е.Е. Вдовин
Abstract
1 min read
Investigated resonant tunneling through defect levels in h-BN barrier van der Waals heterostructures. The effect of multiplication of tunnel resonances through these levels was found, due to the influence of a high degree of defectiveness of the structure of the neighboring layer of graphene, created by intentionally processing in plasma. Various mechanisms of such influence are discussed.
Discussion(0)
No comments yet. Be the first to comment.