Polymere für die 193-nm-Mikrolithographie: regioreguläre 2-Alkoxycarbonylnortricyclen-Polymere durch kontrollierte Cyclopolymerisation von sperrigen Norbornadiencarbonsäureestern

Gleich zwei Aufgaben hat der tert-Butylrest: Als sperriger Substituent im Monomer 1 begünstigt er den Verlauf der radikalischen Cyclopolymerisation mit Maleinsäureanhydrid zum regioregulären Nortricyclenpolymer 2. In diesem kann er durch photochemisch freigesetzte Säuren abgespalten werden, wodurch das Polymer in wäßriger Base löslich wird. Damit kann 2 als Resist in der 193-nm-Mikrolithographie eingesetzt werden, wobei Auflösungen von <0.2 nm erreicht werden können.